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          均勻相位掩模光柵  

          相位掩膜光柵是通過光柵中晶格形狀和晶體表面傾斜斜角在定位晶格上刻蝕出自身相位特征的特殊構造而形成。
           華東西北 Daisy Lee
          18602170419 同微信 可掃碼
           daisy@microphotons.com
           西南東北華中 Tina
          13124873453 同微信 可掃碼
           hongyu.chen@microphotons.com
          產品型號 3
          貨號 操作 名稱
          C80030706  8-10周    1550nm 均勻光柵相位掩模   [PDF] 波長:1550nm; 光柵周期:1071.2 nm; 光柵尺寸為:25 mm x 10 mm 
          C80030707  8-10周    1538nm 均勻光柵相位掩模   [PDF] 波長:1538nm; 光柵周期:1062.8 nm; 光柵尺寸:10 mm x 10 mm 
          C80030708  8-10周    1526nm 均勻光柵相位掩模   [PDF] 波長:1526nm; 光柵周期:1054.3 nm; 光柵尺寸:10 mm x 10 mm 
          總覽

          相位掩膜光柵是通過光柵中晶格形狀和晶體表面傾斜斜角在定位晶格上刻蝕出自身相位特征的特殊構造而形成。

          通用參數

          參數

          指標

          波長

          1526nm

          1538nm

          1550nm

          光柵周期

          1054.3 nm

          1062.8nm

          1071.2 nm

          光柵周期精度和均勻性

          +/- 0.01 nm

          +/- 0.01 nm

          +/- 0.01 nm

          光柵尺寸

          10 mm x 10 mm

          10 mm x 10 mm

          25 mm x 10 mm

          基板尺寸

          30 mm x 25 mm x 2 mm

          30 mm x 25 mm x 2 mm

          30 mm x 25 mm x 2 mm

          針對248nm非偏振照明進行了優化











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